| １． |
半導体製造プロセス「ＰＳⅡ」の目的 |
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このＰＳⅡは「ＣＭＯＳプロセス簡易版」を使い、「半導体の製造工程」テキストの画像などを活用して、半導体プロセスの入門学習用に作成したものです。
テキストと併用することで理解度の向上が可能になります。 |
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| ２． |
ＰＳⅡの特長 |
- ＰＳは「プロセスシミュレーター」の略称で弊社半導体用電子教材の呼称です。
- 「プロセスシミュレーターⅡ」は半導体製造 ・前工程（ウェハー処理）の概念をＣＭＯＳプロセス簡易版を使い、１００スライドで学習します。
- ＣＭＯＳ簡易版のプロセスフローは、１１の形成工程、６９のプロセス、１４７の処理ステップがあります。ウェハーがプロセスバー上のプロセスＮｏ．を順次移動し、処理済のトランジスタ断面図を表示します。
- ＰＡ（パーキングエリア）は完了工程のトランジスタ断面図と回路素子、顕微鏡イメージの回路パターンを学習します。
- 形成工程の開始は、自家用車が完了工程の回路パターンを積んで現れ、開始工程の処理内容が表示されます。
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| ３． |
プロセス解説の内容 |
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各スライドは処理ステップと関連する下記内容を画像、ナレーションで解説します。 |
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- 概要 処理プロセスの概念
- 原理 装置、プロセスの原理
- プロセス 処理ステップ
- 装置 装置の機能
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| ４． |
動作環境 |
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Flashムービーの中でナレーションを使いますので，コンピュータには音声の再生機能が必要です。職場で音声を再生できないときは，ヘッドフォンをお使いください。
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| ５． |
デモの開始 |
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こちらからデモがご覧いただけます。
目次にある１００スライド中、青色表示で下線のある１０スライドです。
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| ６． |
知的財産権 |
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| ７． |
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