ＶＬＳＩ設計の基本　（１）

第１章　はじめに
　
　VLSI発展の歴史／技術の変遷／価格の変遷
　必要技術／産業規模の変遷／VLSIのできるまで

第２章　VLSIの構成要素（基本素子1）
　
　MOSトランジスタ　基本動作
　MOSトランジスタ　２次効果／Spiceモデル

ＶＬＳＩ設計の基本　（２）

第２章　VLSIの構成要素（基本素子２）
　
　ダイオード／バイポーラトランジスタ／抵抗／容量
　／インダクタンス
　
第２章　VLSIの構成要素（基本回路）
　
　MOSトランジスタ・スイッチ／CMOSインバータ
　／各種インバータ
　基本ゲート／複合ゲート／ラッチ
　／レジスタCMOSインバータの性能
　／多入力ゲート／トランジスタのサイジング
　／マージン設計

ＶＬＳＩ設計の基本　（３）

第３章　VLSIの製造技術
　
　ウェハプロセス技術（１）
　単結晶製造方法／個別プロセス技術
　ウェハプロセス技術（２）
　ＣＭＯＳプロセスアセンブリ技術
　
第４章　VLSIの価値と価格
　
　VLSIの価値
　機能／使いやすさ／性能／品質／納期
　VLSIの価格
　需要と供給／開発費用／製造費用／歩留まり
　Case Study
　競争力の構築／SoCに必要な技術／アナログ集積の課題

ＶＬＳＩ設計の基本　（４）

第５章　VLSIの設計方式と各工程
　
　・LSIの設計フロー
　システムLSIの検証／高位設計／機能・論理設計
　テスト設計／論理合成／論理検証／レイアウト設計
　DRC・ERC・LVS／タイミング検証／設計戦略

　・LSIの高性能化に向けた設計技術
　高速・高余裕動作／CMOS論理ゲート設計／クロック戦略
　／配線、ゲートサイズ、保護回路
　低消費電力動作／RTLでの対策
　／アーキテクチャでの対策
　
　・電圧・周波数制御技術
　リーク電流の問題／MTCMOS／VTCMOS／Dual-Vt

ＶＬＳＩ設計の基本　（５）

第２章　VLSIの構成要素　補足：メモリ
　
第６章　VLSI設計の実例
　
第７章　半導体産業におけるVLSI設計
　
第８章　まとめ