セミコンブレーン－eコンテンツ半導体「教育・訓練」－　リアライズ東京講座人気ランキング

リアライズ理工セミナー・半導体セミナー「熊本開講を企画中！

●サイペック（株）・リアライズ事業部門（リアライズ理工セミナー）のご協力を頂いて、全国でトップクラスの実績を誇る、半導体セミナーを九州・熊本にて開講を企画中です。

●希望講座などを受付中です。お問合せからリクエストをお待ちしております。

東京開講　分野別－人気ランキング！　　期間(01/08～02/05)

（Ａ）ＦＡＢ関連
順位	講座名	講師名	所属
Top１	クリーンルームの運転・保守管理技術	浅田敏勝	福井工業大学
２	電子デバイス製造現場における静電気の基礎と対策	稲葉仁	高砂熱学工業（株）
３	半導体製造工程の設備安全設計と管理	石川醇一
４	ケミカルフィルタによるクリーンルーム汚染物質の除去	苅部文夫	日本ピュアテック（株）
５	デバイス産業における環境対策	田中宣雄	沖電気工業（株）
６	半導体工場の省エネ・省資源問題	小笠原弘	三菱電機（株）
７	クリーンルームの気流設計と汚染対策	諏訪好英	（株）大林組
８	クリーンルーム空気の清浄度の管理	藤本武利	（株）住化分析センター
９	２１世紀の半導体工場のウェーハ自動搬送システム	林武秀	イーキャッツ

（Ｂ）回路設計
順位	講座名	講師名	所属
Top１	アナログ回路設計の基礎	佐野芳昭	佐野技術士事務所
２	マイクロ波回路設計・CADの基礎	豊田一彦	NTTエレクトロニクス（株）
３	半導体回路の基礎	青木芳雄	富士通カンタムデバイス（株）
４	アナログ回路設計基礎講座-増幅回路技術の基礎	佐野芳昭	佐野技術士事務所
５	アナログ回路設計基礎講座-要素回路技術の基礎	佐野芳昭	佐野技術士事務所
６	低消費電力・高速VLSI設計	黒田忠広	慶応義塾大学
７	VLSIメモリ設計技術	中込儀延	（株）日立製作所
７	VLSIメモリ設計技術	堀口真志	（株）日立製作所
７	VLSIメモリ設計技術	平木充	（株）日立製作所
７	VLSIメモリ設計技術	阪田健	（株）日立製作所
１１	オペアンプ回路､コンパレータ回路､アナログ演算回路技術の基礎	佐野芳昭	佐野技術士事務所
１２	回路シミュレーション技術	浅井秀樹	静岡大学工学部
１３	C言語からのシステムLSIの設計と検証技術	若林一敏	日本電気（株）
１４	電子回路の高速化に対応する基礎技術「パルスと高調波」	鈴木茂夫	（有）イーエスティ

（C）基盤技術
順位	講座名	講師名	所属
Top１	クリーンルームの粒子／分子汚染の管理と今後のFOUP	平田順太	日立プラント建設（株）
２	半導体プロセスにおける超純水の基礎と応用	今岡孝之	オルガノ（株）
３	新しい特殊ガスの物性と供給	樫原稔
３	新しい特殊ガスの物性と供給	新田義浩	NSエンジニアリング（株）
４	排水・廃液の処理と回収技術	知福博行	神鋼パンテック（株）
５	半導体・FPDプロセスにおける超純水の基礎	都田昌之	山形大学
６	半導体材料ガスの危険性､安全対策､事故の教訓	堀口貞茲	産業技術総合研究所

（Ｄ)材料
順位	講座名	講師名	所属
Top１	レジスト材料技術	田中初幸	クラリアントジャパン（株）
２	ゲッタリング技術の基礎と応用	津屋英樹	住友シチックス（株）
３	エピリアクターの能力を引き出すためのPCシュミレーション	羽深等	横浜国立大学
４	先端半導体プロセスから見たシリコンウェーハの課題	福田哲生	富士通（株）
５	半導体の電気評価技術	宮崎守正	三菱住友シリコン（株）
６	この10年におけるシリコン結晶欠陥技術の展開と現状	金田寛	（株）富士通研究所

（Ｅ）デバイス
順位	講座名	講師名	所属
Top１	半導体集積回路・プロセス入門	菊地正典	日本電気（株）
２	LSIデバイスの基礎	平本俊郎	東京大学
３	化合物半導体デバイスの基礎	宮本恭幸	東京工業大学
４	Siマイクロ波パワーMOSデバイスの基礎	吉田功	（株）日立製作所
５	半導体素子の信頼性の基礎	木村忠正	電気通信大学
６	SAWデバイスの基礎と通信への応用	疋田光孝	（株）日立製作所
７	PLL周波数シンセサイザの基礎から応用技術	新山信哉	（株）九州富士通エレクトロニクス

（Ｆ）プロセス
順位	講座名	講師名	所属
Top１	微量汚染の洗浄機構とシリコン／新材料／微細化対応	森永均	三菱化学（株）
２	基礎から学べる真空技術入門	林義孝	アネルバ（株）
３	スパッタ技術の基礎と課題	星陽一	東京工芸大学
４	シリコンウエーハの洗浄・乾燥技術	平塚豊	（株）ダン科学
５	エッチング技術	堀勝	名古屋大学
６	制御されたプラズマの生成とエッチングプロセス	岡本幸雄	東洋大学
７	制御されたプラズマの生成とエッチングプロセス	塚田勉	アネルバ（株）
８	シリコンウェーハにおける各種の汚染の影響	滝山真功	ニッテツ電子（株）
９	半導体/液晶プロセスの静電気対策問題と最近の動向	藤江明雄	（株）カイジョー
１０	半導体/液晶プロセスの静電気対策問題と最近の動向	鈴木功一	日本電気（株）
１１	金属-シリコン界面の基礎と低抵抗配線への応用	財満鎮明	名古屋大学
１２	リソグラフィ技術の基礎と今後の課題	相崎尚昭	財）武田計測先端知財団
１３	金属汚染とその評価法	森良弘	ワッカーエヌエスシー（株）
１４	ウェーハ検査技術・歩留り管理システムの現状と課題	佐藤俊哉	富士通（株）
１５	プラズマプロセスのモニタリング技術と解析･制御	林康明	京都工芸繊維大学
１６	ウェーハ表面近傍欠陥のデバイスへの影響	山本秀和	三菱電機（株）
１７	シリコン結晶中の微小欠陥とデバイス	清水博文	日本大学
１８	ゲート､キャパシタ､配線工程の金属材料のデバイス特性に与える影響	朴澤一幸	（株）日立製作所
１９	ポリシング/CMP技術の基礎と応用	土肥俊郎	埼玉大学
２０	鉛フリーはんだ現状と展望	菅沼克昭	大阪大学
２１	LSIの低ノイズ実装技術	中村篤	（株）日立製作所
２２	LSI配線技術の基礎	新宮原正三	広島大学
２３	ゲート絶縁膜の信頼性評価技術	佐竹秀喜	（株）東芝